光刻系统

采购需求概况

1、国产半自动高精度双面对准紫外光刻机：用于高精度对准光刻、灰度光刻的微纳加工设备，光刻特征线宽优于0.5微米，加工面积大于100mm×100mm。 2、超快激光精密测量系统：支持对超快激光的时域特性(脉宽、啁啾、脉冲形态)、空域特性(光束质量、光斑分布)、频域特性(光谱带宽、中心波长)及热域特性等进行综合测量，为超快光学研究提供完整的数据支撑；提供全面的安装调试和操作培训，能快速响应并在规定时间内解决故障。 3、高精度3D无掩膜光刻设备：用于亚微米特征尺寸微纳结构图案的无掩膜光刻制备。 4、射频离子源：专门制作全息离子束刻蚀光栅的设备。同时，射频离子源相比其他离子源（如考夫曼离子源），具有更好的束流均匀性和准直性，可以使用更多的反应气体，特别是可以使用氧气进行光刻胶的灰化处理。 5、直流中和射频离子源：在射频离子源功能基础上，直流中和射频离子源具有更大宽度均匀区，通过扫描刻蚀可以实现大面积刻蚀。

同采购单位近期项目