步进式紫外曝光系统

采购需求概况

采购内容:步进式紫外曝光系统 采购数量:1台 主要功能或目标:步进式紫外曝光系统包括晶圆传输系统和纳米级精度多自由度运动台的整机系统，含晶圆传输模块、纳米精度工件台模块、纳米精度掩模台模块、投影物镜、LED照明系统、控制系统、视觉系统等，满足芯片制作光刻工艺要求，可实现芯片领域科研与教学应用目标。 需满足的要求:满足硅片、蓝宝石、碳化硅等衬底光刻工艺需求，分辨率优于0.6μm L/S，对准精度优于0.1μm，适配1英寸，2英寸晶圆。满足晶圆制造光刻工艺教学科研需求。

同采购单位近期项目