高分辨率X 射线活体显微断层成像系统
苏州大学2025年8月 · 2025-08-28
1、紫外纳米压印机:用于高精度微纳元件的制造。 2、磁流变抛光机:通过高速离子束撞击光学元件表面,实现元件表面的分子、原子级材料去除,实现面形超高精度修抛,能够实现对球面、平面、非球面、自由曲面等光学表面RMS1/100λ(λ=632.8nm)以上精度的面形修抛,包含硬件及工艺软件;质保期不少于一年并提供后续的培训及软件更新。 3、机械臂抛光设备:通过机械臂带动抛光头按照规划路径进行化学物理抛光,实现平面、球面、非球面、自由曲面等光学面形的粗抛光及精抛光,达到面形精度RMS 1/80λ(λ=632.8nm), 表面粗糙度优于Ra1nm,包含硬件及工艺软件;质保期不少于一年并提供后续的培训及软件更新。 4、光学定心车床:对光学元件进行高精度光学定心后,通过车削元件外框,实现外框的外圆与光学元件光轴的高度同心,同心度要求达到5um,包含硬件及工艺软件;质保期不少于一年并提供后续的培训及软件更新。
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