光学加工系统

采购需求概况

1、非球面曝光系统：开展全息光刻技术研究，为全息光刻工作提供干涉曝光系统。 2、氪离子激光器：开展全息记录研究，激光输出波长351nm，作为全息记录提供光源。 3、193nm准分子激光器：193nm干式、浸没式光刻机元件光谱性能测量；193nm光刻机光学元件寿命和稳定性测量；193nm光刻机准分子激光器窗口镜元件性能表征；光刻机融石英玻璃掩膜版荧光光谱性能测试研究。 4、全息隔震光学平台（5mx13m)：为全息记录研究工作提供隔振平台。

同采购单位近期项目